Chemical transport method

…For example, when _SiCl4 gas is heated together with _H2 , Si is precipitated. Chemical transport method is used to form compound thin films. This method is characterized by creating a temperature gradient in the reaction chamber. For example, Ga is placed on the high temperature side (up to 850°C) and _AsCl3 gas is pumped in to generate volatile GaCl, which is then diffused to the low temperature side (up to 750°C) where it reacts with _As4 , resulting in the deposition of a GaAs thin film. …

*Some of the terminology used in reference to the "Chemical Transport Act" is listed below.

Source | Heibonsha World Encyclopedia 2nd Edition | Information

…例えばSiCl₄ガスをH₂とともに加熱するとSiが析出する。化合物薄膜の形成には化学輸送法が用いられる。この方法は反応槽に温度こう配をつけることが特徴で，例えば，高温側(～850℃)にGaをおいてここにAsCl₃ガスを送り込んで揮発性のGaClを生成し，このガスを低温側(～750℃)に拡散させてAs₄と反応させ，GaAsの薄膜を析出させる。…

※「化学輸送法」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社世界大百科事典 第２版について | 情報