Etching (IC)

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[The emergence of bipolar planar ICs]
The biggest problem in constructing circuits on the same semiconductor substrate is electrically isolating each circuit element that constitutes the circuit. The above-mentioned Texas Instruments IC used mesa etching for this element isolation. It can be said that the true era of ICs began with the development of planar technology.

*Some of the terminology that refers to "etching (IC)" is listed below.

Source | Heibonsha World Encyclopedia 2nd Edition | Information

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［バイポーラー･プレーナーICの出現］
　同一半導体基板中で回路を構成することのもっとも大きな問題は，回路を構成する各回路素子を電気的に分離することである。上記のテキサス･インスツルメント社のICは，この素子分離にメサエッチングを使用していた。ほんとうのICの時代はプレーナー技術の開発から始まったといえる。…

※「エッチング（IC）」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社世界大百科事典 第２版について | 情報