photo-electroforming

...Etching methods include chemical etching and electrolytic etching, but dry etching, which is performed in plasma gas, is also used for ultra-fine processing.
[Photo-electroforming]
The process of creating a photoresist pattern is similar to photoetching, but in the case of photoelectroforming, any smooth conductive substrate can be used. Generally, copper plates or glass with conductive metals deposited on them are used.

*Some of the terminology that refers to "photo-electroforming" is listed below.

Source | Heibonsha World Encyclopedia 2nd Edition | Information

…エッチングの方法としては化学エッチング法と電解エッチング法があるが，そのほかにプラズマガス中で行われる乾式エッチング法も超微細加工に用いられている。
［フォトエレクトロフォーミングphoto‐electroforming］
　フォトレジストパターンの作成まではフォトエッチングと類似しているが，フォトエレクトロフォーミングの場合，基板としては導電性の平滑な基板であれば何でもよい。一般には銅板やガラスに導電性金属を蒸着したものが用いられている。…

※「photo-electroforming」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社世界大百科事典 第２版について | 情報