lift-off

...This method allows for more precise micromachining than the etching method, but its applications are limited because the material is a metal that can be plated and the thickness limit is a few tens of micrometers.
[Lift-off]
The lift-off method is a method in which after forming a photoresist pattern, a thin film is formed over the entire surface, and then the resist pattern is removed, leaving a film only in the areas where there was no resist. Because it is suitable for forming high-precision patterns on thin films such as evaporated films, it is often used in the field of microlithography, such as in the manufacturing process of integrated circuits.

*Some terminology that mentions "lift-off" is listed below.

Source | Heibonsha World Encyclopedia 2nd Edition | Information

…エッチング法より精度の高い微細加工ができるが，材質がめっき可能な金属であることと，厚さの限界が数十μmであるために用途が限られている。
［リフトオフlift‐off］
　フォトレジストのパターンを形成した後，全体に薄い膜を形成し，レジストパターンを除去することによりレジストのなかった部分のみに膜を残す方法をリフトオフ法という。蒸着膜のような薄い膜の高精度のパターン形成に適しているため，集積回路の製造工程などマイクロリソグラフィーの分野でよく使われている。…

※「lift-off」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社世界大百科事典 第２版について | 情報