SOS (Crystal) - SOS

Japanese: SOS（結晶） - えすおーえす

…Since around 1960, epitaxial crystal growth has been widely used in the manufacture of semiconductor devices made of silicon, gallium phosphide, gallium arsenide, and other materials. In particular, silicon grown on sapphire (corundum) is called SOS (silicon on saphire) and is used in the manufacture of LSIs. In addition, rare earth iron oxide garnet-type crystals are grown on gadolinium gallium garnet (GGG) crystals to create magnetic bubble memories. …

From [Integrated Circuits]

…Usually abbreviated as IC, it is defined as “a circuit in which two or more circuit elements are all integrated on or within a single substrate, and which is treated as a single unit at each stage from design to manufacturing, testing, and operation.” The substrate here is the single-crystal material on which transistors and ICs are formed. Silicon, an elemental semiconductor, is usually used, but for high-performance ICs, gallium arsenide, a compound semiconductor, is used. …

*Some of the terminology that mentions "SOS (crystal)" is listed below.

Source | Heibonsha World Encyclopedia 2nd Edition | Information

Japanese:

…1960年ころからエピタキシャル結晶成長がシリコン，リン化ガリウムやヒ化ガリウムなどを材料とする半導体デバイス製造に多用されている。特にサファイア(コランダム)上のシリコン成長をSOS(silicon on saphireの略)と呼びLSI製作に使用されている。また，ガドリニウム･ガリウム･ガーネット(GGG)結晶上に希土鉄酸化物ザクロ石型結晶を成長させて磁気バブルメモリーの製作に用いられている。…

【集積回路】より

…通常はICと略称され，〈二つ，またはそれ以上の回路素子のすべてが，一つの基板上または基板内に組み込まれている回路であり，設計から製造，試験，運用に至るまで各段階で一つの単位として取り扱われるもの〉と定義されている。ここで基板substrateというのは，トランジスターやICがその上に形成される単結晶素材で，通常は元素半導体であるシリコンが使用されるが，高性能ICに対しては，化合物半導体であるガリウムヒ素GaAsが使用される。…

※「SOS（結晶）」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社世界大百科事典第２版について | 情報

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