Photoresist

...Because it is suitable for forming high-precision patterns on thin films such as evaporated films, it is often used in the field of microlithography, such as in the manufacturing process of integrated circuits.
[Photoresist]
When a thin coating is applied with light energy, a chemical change occurs, making it insoluble in certain solvents (negative type), while light energy decomposes it, making it soluble in certain solvents (positive type). A pattern can be formed by exposing it to light through a photographic original. The remaining coating is resistant to processing of the substrate, and protects that area during processing.

*Some of the terminology that mentions "photoresist" is listed below.

Source | Heibonsha World Encyclopedia 2nd Edition | Information

…蒸着膜のような薄い膜の高精度のパターン形成に適しているため，集積回路の製造工程などマイクロリソグラフィーの分野でよく使われている。
［フォトレジストphotoresist］
　薄い塗膜状にして光エネルギーを与えると化学変化を生じ，ある溶媒に対し不溶性に変化するネガ型と，光エネルギーにより分解し，ある溶媒に対して可溶性に変わるポジ型とがあり，写真原版を通して光を与えることによりパターン形成ができる。残った皮膜は基板の加工に対し耐性をもっていて，基板加工の際その部分を保護する。…

※「photoresist」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社世界大百科事典 第２版について | 情報